Diòxid de silici
 | |
| Substància | compost químic, excipient i additiu alimentari |
|---|---|
| Massa molecular | 59,967 uma, 60,0843 gram per mol i 60,038 gram per mol |
| Estructura química | |
| Fórmula química | SiO₂ |
| SMILES canònic |
Model 2D O=[Si]=O |
| SMILES isomèric |
O=[Si]=O |
| InChI | Model 3D |
| Propietats | |
| Punt de fusió | 3.110 °F |
| Punt d'ebullició | 4.046 °F |
| Pressió de vapor | 0 mm Hg |
| Altres propietats | |
| Higroscopicitat | |
| Identificadors | |
| CAS | 7631-86-9 |
| InChIKey | VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N |
| PubChem | 24261 |
| RTECS | VV7565000 |
| AEPQ | 231-545-4 |
| ChEBI | 30563 |
| KEGG | C19572 |
| ChemSpider | 22683 |
| ChEMBL | CHEMBL3188292 |
| UNII | ETJ7Z6XBU4 |
| ZVG | 1290 |
| Infocard ECHA | 100.028.678 |
| DSSTOX | DTXSID1029677 |
| RxNorm CUI | 9771 |
| NDF-RT | N0000145795 |
| Beilstein | 3902804 |
| Número E | E551 |
| Open Food Facts | e551-silicon-dioxide |
| MeSH | D012822 |
| Gmelin | 200274 |
 | |
El compost químic conegut com a diòxid de silici o sílice és l'òxid de silici, amb fórmula química SiO2.
Es pot trobar a la natura en múltiples formes: quars, arena, cristobalita, òpal, sílex...
És el principal constituent de la sorra, principalment en forma de quars, ja que la gran duresa d'aquest el protegeix de l'erosió. Tot i això la composició de la sorra, varia en funció de la geologia i les condicions locals.
La inhalació de diòxid de silici cristal·li en la pols, pot provocar la silicosi, malaltia que afecta especialment als miners.
El diòxid de silici cristal·litzat és un material molt dur. S'empra per produir ones radioelèctriques d'una freqüència molt precisa, la qual cosa és molt útil per fabricar rellotges, aparells de ràdio, ordinadors, i qualsevol equip electrònic on cal una freqüència radioelèctrica molt precisa.
Química[modifica]
El diòxid de silici es pot formar en escalfar silici a temperatures extremadament altes en presència d'oxigen (o aire). Ocasionalment, pot ocórrer de forma natural en incendis, o al caure un llamp sobre sorra.
El diòxid de silici es pot atacar amb àcids forts, particularment el fluorur d'hidrogen (HF). Precisament s'utilitza aquest àcid per eliminar o marcar el diòxid de silici en la indústria dels semiconductors.
Feix de fibres òptiques fetes de sílice d'alta puresa.
Malla de fibra de sílice per a aïllament tèrmic.
Sorra de Quars (Sílice) com a material base per la producció de vidre.
 |
A Wikimedia Commons hi ha contingut multimèdia relatiu a: Diòxid de silici |
|
