Fitxer:Locos (microtechnology) process recessed.svg
Aparença
![Fitxer:Locos (microtechnology) process recessed.svg](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/5/5f/Locos_%28microtechnology%29_process_recessed.svg/330px-Locos_%28microtechnology%29_process_recessed.svg.png)
Mida d'aquesta previsualització PNG del fitxer SVG: 330 × 599 píxels. Altres resolucions: 132 × 240 píxels | 264 × 480 píxels | 423 × 768 píxels | 564 × 1.024 píxels | 1.128 × 2.048 píxels | 512 × 929 píxels.
Fitxer original (fitxer SVG, nominalment 512 × 929 píxels, mida del fitxer: 31 Ko)
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
---|---|---|---|---|---|
actual | 21:08, 14 des 2009 | ![]() | 512 × 929 (31 Ko) | Cepheiden | some fixes |
22:24, 19 gen 2008 | ![]() | 625 × 1.169 (64 Ko) | Twisp | {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni |
Ús del fitxer
La pàgina següent utilitza aquest fitxer:
Ús global del fitxer
Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:
- Utilització a ja.wikipedia.org