350 nanòmetres

De Viquipèdia
Salta a la navegació Salta a la cerca
Fig.1 Exemple de tecnologia de 350 nm : dau d'AMD K5
Tecnologia Any
10 um 1971
6 um 1974
3 um 1977
1,5 um 1982
1 um 1985
800 nm 1898
600 nm 1994
350 nm 1995
250 nm 1997
180 nm 1999
130 nm 2001
90 nm 2004
65 nm 2006
45 nm 2008
32 nm 2010
22 nm 2012
14 nm 2014
10 nm 2017
7 nm 2018
5 nm 2020

350 nanòmetres (350 nm) és una tecnologia de fabricació de semiconductors en què els components tenen una dimensió de 350 nm. És una millora de la tecnologia de 600 nm. La llei de Moore diu que la superfície és redueix a la meitat cada 2 anys, per tant el costat del quadrat de la nova tecnologia serà de .  Sabent que els àtoms de silici tenen una distància entre ells de 0,543 nm, llavors el transistor té de l'ordre de 644 àtoms de llargada.[1]

Tecnologia emprada[modifica]

Processadors [modifica]

Fabricant Data CPU Notes
Intel 1995 Pentium Pro, II
AMD 1996 K5
NEC 2004 VR4300 Nintendo 64

[2]

Fabricant Intel IBM AMD AMD DEC Fujitsu IDT NEC TI Motorola Hitachi
Nom del procés P854 CS-34 CS-34EX CMOS-6 CS-60 HiPerMOS 2
Primera producció 1994 1994 1995 1995 1996 1996 1995 1997 1996
Capes de Metal 4 5 5 5 6 5 3 4 5
  Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ Valor 500 nm Δ
Pas de contacte de porta 550 nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x
Pas de connexió 880 nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x  ? nm  ?x
Cel.lula 1 bit de RAM 18.1 µm2 0.41x  ? µm2  ?x  ? µm2  ?x  ? µm2  ?x  ? µm2  ?x  ? µm2  ?x  ? µm2  ?x  ? µm2  ?x  ? µm2  ?x 21.67 µm2  ?x  ? µm2  ?x

Vegeu també[modifica]

Referències[modifica]

  1. Nishi, Yoshio; Doering, Robert. Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition (en anglès). CRC Press, 2007-07-09. ISBN 9781420017663. 
  2. «250 nm lithography process - WikiChip» (en anglès). en.wikichip.org. [Consulta: 19 març 2017].