Fotolitografia (electrònica)

De Viquipèdia
Salta a la navegació Salta a la cerca
Fig.1 Il·lustració simplificada del gravat en sec usant fotolitografia sobre semiconductor (no està a escala).

Fotolitografia (també, litografia òptica o litografia UV), en electrònica, és un procés utilitzat en microfabricació mitjançant l'estampació fotoquímica sobre un substrat de silici anomenat oblia. La fotolitografia fa servir la llum per transferir un model geomètric extremadament petit des d'una fotomàscara a un substrat sensible a la llum. Aleshores s'hi apliquen tot un seguit de processos de deposició o gravat, Per exemple, un circuit CMOS es pot processar fins a 50 cicles fotolítics. Només pot processar superfícies planes 2D i necessita una atmosfera extremadament neta (sala blanca).[1][2][3][4]

Procediment[modifica]

Fase Descripció
Neteja Mitjançant un tractament químic; per exemple, segons la norma RCA clean
Preparació Es diposita l'oblia a 150 ºC durant 10 minuts.
Aplicació fotoresistiva Aplicació d'una pel·lícula fotoresistiva mitjançant centrifugació (spin coating).
Exposició i desenvolupament Exposició de la matriu a revelar/insolar a una llum molt intensa.
Gravat Eliminació de les parts sense insolar amb agents químics
Eliminació fotoresistiva Neteja de residus fotosensibles.

Referències[modifica]

  1. Mack, Chris. «The Basics of Microlithography» (en anglès). http://www.lithoguru.com.+[Consulta: 16 novembre 2017].
  2. «What is photolithography? - Definition from WhatIs.com» (en anglès). WhatIs.com, 16-11-2017.
  3. «Photolithography | Its Importance in Semiconductor Manufacturing -» (en anglès). https://www.waferworld.com, 08-02-2016.
  4. «Photolithography» (en anglès). https://www.slideshare.net.+[Consulta: 16 novembre 2017].

Vegeu també[modifica]