Fotolitografia (electrònica)

De Viquipèdia
Jump to navigation Jump to search
Fig.1 Il·lustració simplificada del gravat en sec usant fotolitografia sobre semiconductor (no està a escala).

Fotolitografia (també litografia òptica o litografia UV), en electrònica, és un procés emprat en microfabricació mitjançant l'estampació fotoquímica sobre un substracte de silici anomenat oblia. La fotolitografia utilitza la llum per a transferir un model geomètric extremadament petit des d'una fotomàscara envers un substracte sensibe a la llum. Aleshores s'hi apliquen tot un seguit de processos de deposició o gravat, Per exemple, un circuit CMOS es pot processar fins a 50 cicles fotolítics. Només pot processar superfícies planes 2D i necessita una atmosfera extremadament neta (sala blanca).[1][2][3][4]

Procediment[modifica]

Fase Descripció
Neteja Mitjançant un trantaament químic, per exemple segons la norma RCA clean
Preparació Es diposita l'oblia a 150ºC durant 10 minuts.
Aplicació fotoresistiva Aplicació d'una pel·lícula fotoresistiva mitjançant centrifugació (spin coating).
Exposició i desenvolupament Exposició de la matriu a revelar/insolar a una llum molt intensa.
Gravat Eliminació de les parts sense insolar amb agents químics
Eliminació fotoresistiva Netejat de residus fotosensibles.

Referències[modifica]

  1. Mack, Chris. «The Basics of Microlithography» (en anglès). http://www.lithoguru.com.+[Consulta: 16 novembre 2017].
  2. «What is photolithography? - Definition from WhatIs.com» (en anglès). WhatIs.com, 16-11-2017.
  3. «Photolithography | Its Importance in Semiconductor Manufacturing -» (en anglès). https://www.waferworld.com, 08-02-2016.
  4. «Photolithography» (en anglès). https://www.slideshare.net.+[Consulta: 16 novembre 2017].

Vegeu també[modifica]