Diòxid de silici

De Viquipèdia
Dreceres ràpides: navegació, cerca
Diòxid de silici
General
Altres noms Sílice
Fórmula molecular SiO2
Massa molar 60.1 g/mol
Aspecte blanc o incolor
sòlid (en estat pur)
Nombre CAS [14808-60-7]
Propietats
Densitat i fase 2.6, g/cm3 sòlid
Solubilitat en aigua insoluble
Punt de fusió 1610 °C
Punt d'ebullició 2230 °C
Estructura
Geometria
de coordinació
tetraèdric
Estructura cristal·lina variat
Perills
Classificació UE  
NFPA 704
NFPA 704.svg
0
0
0
 
Frases R R42 R43 R49
Frases S S22 S36 S37 S45 S53
Punt d'inflamabilitat no inflamable
Compostos relacionats
Altres anions Disulfur de silici
Altres cations Diòxid de carboni
Diòxid de germani
Òxid d'estany(IV)
Òxid de plom(IV)
Compostos relacionats Àcid silícic
Si no s'indica el contrari, les dades són pels materials
en condicions estàndard (25 °C, 100 kPa)
Avís d'exempció de responsabilitat

El compost químic conegut com a diòxid de silici o sílice és l'òxid de silici, amb fórmula química SiO2.

Es pot trobar a la natura en múltiples formes: quars, arena, cristobalita, òpal, sílex...

És el principal constituent de la sorra, principalment en forma de quars, ja que la gran duresa d'aquest el protegeix de l'erosió. Tot i això la composició de la sorra, varia en funció de la geologia i les condicions locals.

La inhalació de diòxid de silici cristal·li en la pols, pot provocar la silicosi, malaltia que afecta especialment als miners.

El diòxid de silici cristal·litzat és un material molt dur. S'empra per produir ones radioelèctriques d'una freqüència molt precisa, la qual cosa és molt útil per fabricar rellotges, aparells de ràdio, ordinadors, i qualsevol equip electrònic on cal una freqüència radioelèctrica molt precisa.

Química[modifica | modifica el codi]

El diòxid de silici es pot formar en escalfar silici a temperatures extremadament altes en presència d'oxigen (o aire). Ocasionalment, pot ocórrer de forma natural en incendis, o al caure un llamp sobre sorra.

El diòxid de silici es pot atacar amb àcids forts, particularment el fluorur d'hidrogen (HF). Precisament s'utilitza aquest àcid per eliminar o marcar el diòxid de silici en la indústria dels semiconductors.


A Wikimedia Commons hi ha contingut multimèdia relatiu a: Diòxid de silici Modifica l'enllaç a Wikidata