Diòxid de silici

De Viquipèdia
Salta a: navegació, cerca
Infotaula de compost químicDiòxid de silici
Sample of silicon dioxide.jpg
Substància compost químic, excipient i additiu alimentari
Massa molecular 59,967 uma, 60,0843 gram per mol i 60,038 gram per mol
Estructura química
Fórmula química SiO₂
SMILES canònic
Model 2D
O=[Si]=O
SMILES isomèric
O=[Si]=O
InChI Model 3D
Propietats
Punt de fusió 3.110 °F
Punt d'ebullició 4.046 °F
Pressió de vapor 0 mm Hg
Perills
NFPA 704.svg
0
0
0
 
Altres propietats
Higroscopicitat
Identificadors
CAS 7631-86-9
InChIKey VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N
PubChem 24261
RTECS VV7565000
AEPQ 231-545-4
ChEBI 30563
KEGG C19572
ChemSpider 22683
ChEMBL CHEMBL3188292
UNII ETJ7Z6XBU4
ZVG 1290
Infocard ECHA 100.028.678
DSSTOX DTXSID1029677
RxNorm CUI 9771
Beilstein 3902804
Número E E551
Open Food Facts e551-silicon-dioxide
MeSH D012822
Modifica dades a Wikidata

El compost químic conegut com a diòxid de silici o sílice és l'òxid de silici, amb fórmula química SiO2.

Es pot trobar a la natura en múltiples formes: quars, arena, cristobalita, òpal, sílex...

És el principal constituent de la sorra, principalment en forma de quars, ja que la gran duresa d'aquest el protegeix de l'erosió. Tot i això la composició de la sorra, varia en funció de la geologia i les condicions locals.

La inhalació de diòxid de silici cristal·li en la pols, pot provocar la silicosi, malaltia que afecta especialment als miners.

El diòxid de silici cristal·litzat és un material molt dur. S'empra per produir ones radioelèctriques d'una freqüència molt precisa, la qual cosa és molt útil per fabricar rellotges, aparells de ràdio, ordinadors, i qualsevol equip electrònic on cal una freqüència radioelèctrica molt precisa.

Química[modifica]

El diòxid de silici es pot formar en escalfar silici a temperatures extremadament altes en presència d'oxigen (o aire). Ocasionalment, pot ocórrer de forma natural en incendis, o al caure un llamp sobre sorra.

El diòxid de silici es pot atacar amb àcids forts, particularment el fluorur d'hidrogen (HF). Precisament s'utilitza aquest àcid per eliminar o marcar el diòxid de silici en la indústria dels semiconductors.


A Wikimedia Commons hi ha contingut multimèdia relatiu a: Diòxid de silici Modifica l'enllaç a Wikidata


Referències[modifica]